在刚角附近是否存在奇异应力场?
参见光弹性研究http://www.ing.unitn.it/~bigoni/stiffener.html
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通过卡坦Feron，张甄和锁志刚
当硅受到应变场作用时，硅中载流子的迁移率可以显著提高。然而，在微电子器件中，应变场可能在尖锐的特征处(如边缘或角落)加剧，从而向硅中注入位错并最终使器件失效。边缘处的应变场是奇异的，通常是两种不同指数模态的线性叠加。我们通过模态角表征了两种模态的相对贡献，并确定了载荷振幅增加时的临界滑移系统。我们计算了在硅衬底上粘接薄膜条的临界残余应力。
张甄和锁志刚
对于以一定角度撞击双材料界面的裂纹，奇异应力场是两种模态的线性叠加，通常是指数不等的模态，或者是一对复共轭模态，或者是两个不等实数模态。在后一种情况下，一个较强的奇点和一个较弱的奇点共存(称为分裂奇点）.我们定义了一个无量纲参数，称为局部模混合,描述两种模式在发生断裂过程的长度尺度上的比例。我们发现，较弱的奇异性可以很容易地影响裂纹是否会穿透界面或剥离界面。
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