图案形成的数学模型研讨会

图案形成的数学模型研讨会

非线性分析中心
卡耐基梅隆大学，宾夕法尼亚州匹兹堡
2019年3月8日至10日

https://events.mcs.cmu.edu/cnaworkshop2019/

来自物理科学和工程的挑战正在推动变分法、非线性偏微分方程和科学计算等新技术的发展。相反，来自这些领域的技术正在对我们对这些问题的理解产生根本性的影响。在许多科学和工程环境中，模式形成是一个重要的新兴主题。在这一领域，本次研讨会的主题将包括结晶、共聚物、材料缺陷、微观结构的开始和起皱。

演讲者包括:

• Basile Audoly, CNRS和Ecole Polytechnique，法国

• 彼得·贝拉，德国莱比锡大学

• Irene Beyerlein，加州大学圣巴巴拉分校，美国

• Rustum Choksi，加拿大麦吉尔大学

• 杜强，哥伦比亚大学，美国

• 肯尼斯·m·戈尔登，犹他大学

• 理查德·詹姆斯，明尼苏达大学，美国

• Francisco López jimsamnez，美国科罗拉多大学博尔德分校

• 罗伯特·科恩，纽约大学，美国

• Konstantinos Koumatos，英国苏塞克斯大学

• Maria Giovanna Mora，意大利帕维亚大学

• Massimiliano Morini，意大利帕尔马大学

• Cyrill Muratov，新泽西理工学院，美国

• Paul Plucinsky，明尼苏达大学，美国

• Angkana r land，德国马克斯·普朗克科学数学研究所

• Lev Truskinovsky，巴黎综合理工学院，法国

• 弗兰兹卡·韦伯，卡内基梅隆大学，美国

• 芭芭拉·兹维克纳格尔，德国柏林工业大学

邀请高级研究生、博士后和初级教师提交标题和海报摘要。还需要一份简历。每张海报将分别进行五分钟的口头介绍。
网上提交海报的截止日期为2019年2月15日。

鼓励本科生、研究生、博士后申请资助。
在线申请截止日期为2019年1月15日。

组织者:
Kaushik Dayal, Irene Fonseca, Giovanni Leoni
卡耐基梅隆大学