黄仁荣,应用物理学报87,151911(2005)。
分析了介质衬底上导电薄膜在横向电场和残余应变作用下的稳定性。在均匀电场作用下,基底的减薄程度恒定,存在平衡态。然而,平衡状态可能是不稳定的,这取决于电场强度、衬底的刚度和泊松比以及薄膜中的残余应变。基于线性摄动分析,确定了临界条件,在此条件下预测了薄膜的起皱。
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